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半導體行業(yè)在生產(chǎn)的時(shí)候需要大量的清洗水,隨著(zhù)半導體工業(yè)的不斷發(fā)展,對清洗水的電導性、離子含量、TOC、DO、Particles要求也越來(lái)越嚴格。由于半導體用超純水對多項指標的高要求,所以在半導體行業(yè),超純水不同于其他行業(yè)對水的要求,半導體行業(yè)對超純水有嚴格的水質(zhì)要求。
在半導體生產(chǎn)工藝中,硼是P型雜質(zhì),過(guò)量會(huì )使n型硅反型,對電子、空穴濃度有影響。因此在超純水行業(yè)中,要充分考慮硼的脫除?!禨tandard Guide for Ultra-Pure Water Used in the Electronics and Semiconductor Industries》(ASTM-D5127-13)標準中E1.3中要求硼離子≤0.05μg/L。如果硼離子含量能夠達到更低的指標,勢必會(huì )提升半導體的性能。
萊特萊德超純水設備能夠連續穩定的制備品質(zhì)優(yōu)良的超純水,不會(huì )因為樹(shù)脂再生而停止運行,設備結構設計相對靠緊,所以其占地較小,可以為企業(yè)節省很多空間,工業(yè)用超純水設備在出廠(chǎng)前均需進(jìn)行裝置調試,所以設備故障幾率較小,日常保養、維修等操作都十分簡(jiǎn)單。目前,超純水設備已在諸多項目在運行,應用優(yōu)勢顯著(zhù)。
萊特萊德超純水設備應用于某半導體企業(yè)
一、項目名稱(chēng):四川省某半導體企業(yè)超純水項目
二、項目地址:四川省
三、執行標準
《電子級水》(GB/T 11446.1-2013)
《Standard Guide for Ultra-Pure Water Used in the Electronics and Semiconductor Industries》(ASTM-D5127-13)
四、項目工藝:
Huncotte系統選用核子級樹(shù)脂,通過(guò)獨有的靶向離子交換樹(shù)脂,能夠有效控制系統出水的硼離子含量,硼離子含量通過(guò)IPC-MS檢測,硼離子出水≤0.005μg/L遠遠小于A(yíng)STM-D5127-13標準中E1.3中要求硼離子≤0.05μg/L。相信更優(yōu)質(zhì)的超純水,可以給半導體帶來(lái)更好的性能,給半導體企業(yè)帶來(lái)更強的優(yōu)勢。
萊特萊德長(cháng)年致力于水處理設備的開(kāi)發(fā)、研制和生產(chǎn),積累了豐富的水處理技術(shù)制造經(jīng)驗,擁有專(zhuān)業(yè)的加工設備,齊全的檢測手段,完善的質(zhì)保體系以及合理的售后服務(wù)。
技術(shù)資料
萊特萊德工程案例